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大家好,今天小编关注到一个比较有意思的话题,就是关于长春真空泵机组维修保养问题,于是小编就整理了2个相关介绍长春真空泵机组维修保养的解答,让我们一起看看吧。

  1. 今日股市冲高回落,9月15日周二行情将如何运行?
  2. 关于光刻机,中国需要做哪些方面的突破?

今日股市冲高回落,9月15日周二行情将如何运行?

周二怎么也得涨啊,又不是黑色的星期一,也不是黑色的星期五,星期四,那么就剩星期二、星期三了,就目前来说,星期二继续上涨的可能非常大,因为如果周二不涨,只能剩周三必涨了,可是,哪有那么多必然啊,索性周二不如先涨涨,这样周三的压力就小点。而周四、周五就没指望了,要是能涨更好,要是不涨,也都一点毛病没有,因为周四、周五下跌的时候太多了,数不胜数,虽然它有时候也上涨。

那么说说周二具体怎么走呢?要是能够顺利穿过60日均线更好,那么局势基本就稳住了,然后就剩下看涨了,因为局面打开了。如果不能占上60日均线,那么可能又玄乎了,是不是继续反手下跌,这个可能性非常大。总之眼前,还需要保守操作,毕竟趋势还未明朗。

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其实现在观望都是可以的,空仓更好。当然,如果发现有合适的个股,也可以适当参与,但要严格控制仓位。目前还不是大包大干的时候,所以还是以控制风险为主。

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9月15日周二行情仍将继续震荡,观点如下:

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一,今日沪深两市较上周五略有放量,以小幅上涨报收,但是成交量依然较前期没有有效放量,而今日创业板的成交额又再次超过了沪市,这也呈现了大资金对主板的权重板块仍在观望的气氛较浓。

二,这两天指数的上涨,从技术面上,很大程度上是对上周三和上周四的1小时和2小时线超卖的修复。今天的创业板又留下了6个点的缺口,走势较强,如果主板的权重板块没有动作,指数持续向上仍有待观察。

三,经过了上周的大幅杀跌后,创业板的利空有所兑现,短期的小趋势仍然向下,上方压力依然较大,而下方7月6日的周缺口支撑极强,下跌跌幅度也有限,而中长期的大趋势仍然向下,没有跌破。

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四,近期在***的不确定性,而国内短期又缺乏新的较大利好助力情况下,大资金仍暂时观望,因此动力和动能仍显不足。

总结以上因素,大盘指数在短期趋势向下,上方压力仍较大,而中长期的大趋势仍然完好,而下方又有周线缺口的极强支撑,因此经过这两天的小幅修复后,大盘指数即将进入筑底阶段,所以明天周二大盘指数应继续震荡,最高应在3310点之下,最低仍然在上周四的低点3227点之上,也就是周二或周三需谨防对上周四低点的回探。各位股友们有何观点呢?

对近期大盘指数的预判的主要因素和观点,我在前几天的图文与回答中均有连续详细的预判与说明因素,如有兴趣可阅读这两三天以来的图文和回答。

以上纯属个人观点,不作为任何依据。

密切观察,耐心等待更好的机会,黎明近在咫尺

今天行情依旧会延续缩量弱反弹,盘中尝试冲高60日均线,如果资金不能跟上的话,指数会冲高,随后指数保持窄幅震荡,早盘是行情平稳,尾盘不排除大盘会发生运行变盘。

什么周二行情运行总体都是走缩量弱反弹,总体运行在3230点~3290点区间,但不排除尾盘会出现变盘的理由如下:

1、今天是弱反弹的第3个交易日,大盘弱反弹已经运行到上方阻力位附近了,大盘指数已经到了关键时刻,要选择变盘的节骨眼上了,所以在多空博弈未分成胜负的时候,总体会保持震荡为主,确实不排除尾盘会选择方向

2、今天整个盘面分化特别严重,尤其是创业板熄火,创业板股票回调,让市场失去赚钱效应。现在市场资金和人气都在创业板身上,创业板的下跌打击市场做多信心,所以多头无法聚力力量进行反转拉升。

3、近三个交易日本身就是一个下跌中继的反弹,大盘指数不会由于上周4个交易日就调整结束了。大盘在这里弱反弹目的是诱多,吸引一批韭菜,随后又会进行收割韭菜,所以确定是下跌中继的弱反弹大盘运行震荡为主,涨不起来也跌不下去,除非多空博弈分出胜负之后又出现单边走势。

根据以上三大因素的分析,今天周二股市运行的在3230点~3290点之间震荡,但总体保持弱反弹,盘中没事,只是谨防尾盘变盘。

A股延续涨势!明日即将公布重要数据 大盘有望迎来中阳

周一早盘,受到周末经济数据超预期和***市场大涨影响,A股三大指数高开高走,创业板盘中大幅拉升一度涨超2%,科创板个股早盘大幅走强,板块个股普涨,临近午盘展开回落,沪指早盘最高上探至3283点附近;午后两市小幅回落补了日内缺口后展开反弹,临近尾盘加速上涨,最终沪指以0.57%涨幅报收,创业板指收涨1.42%表现强于主板。盘面上,半导体、光刻机、知识产权、环保、稀土等板块涨幅居前;保险、猪肉、煤炭、房地产等少数板块飘绿。个股涨多跌少,75家个股涨停,10家个股跌停;两市成交额7694亿元相比上一个交易日有所放量,创业板成交金额再超沪市;北向资金小幅净流出13.3亿元,其中沪股通流入4.64亿元,说明主力资金依旧青睐创业板。

今日盘面走势和盘前分析基本一致,全天呈现窄幅震荡,市场人气正在逐渐恢复中;创业板低价股全线大涨,主要是和周末村里发声有关:注册制下,监管层尽量不干预市场行为。

明日即可公布8月份重要经济数据,若具体数据若好于预期值,有望激发短线市场做多热情。

我们在周末对市场进行分析时指出,本周将是震荡上行走势。上周的大幅回调对多头信心打击比较大,目前处于阶段底部,成交量正在逐步放大中,属于资金面正常走势。

今日沪指收出十字星,说明大盘面临方向选择;30分钟级别已经彻底企稳;5日线下穿10日线说明目前仍处于空头趋势中,但沪指收盘站上5日线并且5日线已经走平;KDJ有形成金叉迹象。如果明日公布经济数据好于预期,有望***大盘一举突破3300点附近的压力位。

今天三大股指均收十字星,且量能不济,冲高回落,疲态尽显,全靠拉升茅台等权重股才得以飘红。

昨日和今日处于下跌中继时段,明天开始还会继续下跌,要到3200点以下后,才会短线企稳。

长期看,股市会进入熊市。

关于光刻机,中国需要做哪些方面的突破?

ASML在荷兰,但最大持股人是米国,股东有台湾的台积电和三星等…将一堆沙子变成集成度这么高的芯片,才使得现在的手提电脑智能手机等变得这么轻薄,这是人类智慧结晶的最高殿堂级产品,不是有钱就能买的,此公司产品也只卖股东,现在7纳米的晶体管已量产,5纳米和3纳米的正在研发,估计也很快量产,但国产的水平应该在20纳米左右,差距不是一只半点,我们需要的不仅仅是弯道超车,而可以汇聚更多的顶尖人才变道超车,阿里巴巴马云组建的达摩院就是以此为方向的一个科研机构。很多技术我们既然落后太多,与其花精力去追赶,还不如换个思路进行变道反超,从不同的方向找到一个可以取代它的产品就行了,能够找到可以取代它的技术,那米国再牛逼的技术,也将变得一文不值。就像汽油发动机取代蒸汽机,电车竞争油车一样。

回答这个问题,不如先看下当前中国光刻机的现状(2018-2020);我国光刻机在不断发展但是与国际三巨头尼康佳能(中高端光刻机市场已基本没落)ASML(中高端市场近乎垄断)比差距很大。

2018年光刻机制造商的销售情况:

2018年ASML、Nikon、Canon三巨头半导体用光刻机出货374台,较2017年的294台增加80台,增长27.21%。ASML、Nikon、Canon三巨头光刻机总营收118.92亿欧元,较2017年增长25.21%。从EUV、ArFi、ArF机型的出货来看,全年共出货134台。其中ASML出货120台,占有9成的市场。

2018年ASML光刻机出货224台,营收达82.76亿欧元,较2017年成长35.74%。其中EUV光刻机营收达18.86亿欧元,较2017年增加7.85亿欧元。EUV光刻机出货18台,较2017年增加7台;ArFi光刻机出货86台,较2017年增加10台;ArF光刻机出货16台,较2017年增加2台;KrF光刻机出货78台,增加7台;i-line光刻机出货26台,和2017年持平。2018年单台EUV平均售价1.04亿欧元,较2017年单台平均售价增长4%。而在2018年一季度和第四季的售价更是高达1.16亿欧元。目前全球知名厂商包括英特尔Intel三星Samsung、台积电TSMC、SK海力士SK Hynix、联电UMC、格芯GF、中芯国际SMIC、华虹宏力、华力微等等全球一线公司都是ASML的客户。2018年中国已经进口多台ArFi光刻机,包括长江存储、华力微二期。

国际市场上傲视群雄的是荷兰【ASML】

目前我国最有名的光刻机制造商为【上海电子

ASMl成功的原因有哪些呢?资本,技术,市场这些都是ASML成功的核心要素。制造光刻机的难点在于很多产品零部件都需要很高的精度与技术门槛,如果放到一个国家来研制的话,可能性极小。光刻机现在被分为前道光刻机和后道光刻机这两种不同的方式,而真正具有难度的就是这个前道光刻机的制造技术,即便有图纸也很难制造出来。光刻机的难度主要体现在底片的制造,是用涂满光敏胶的硅片制作而成,这个工艺就非常的复杂,需要认为重复几十遍才可以制造而成。还有就是光刻机的镜头,据说是使用蔡司的技术打造而成的,而且所需要的时间都是几十年或者上百年才可以完成。这些还不是真正最难的部分,而真正最难的部分还是属于光源系统的来源,这也被称为整个光学工业中的明珠所在。研发过程是没有什么捷径可走的,精度只能一步步提升。没有一微米的基础,就不可能造90纳米的设备,没有90纳米的基础,就不可能造45纳米的设备。现在ASML的超高工艺精度,这个水平不是天上掉下来的,而是别人几十年一步一步逐渐积累出来的。

ASML正在研发新一代EUV光刻机EXE:5000系列,最快会于2021年面世。现在ASML销售的光刻机主要为NXE:3400B和改进型的NXE:3400C,结构上相似。差别在于NXE:3400C***用模块设计,将平均维护时间从48小时缩短到8-10小时;NXE:3400C的产量也从125WPH提升到了175WPH。这两款EUV光刻机属于第一代,物镜系统的NA(数值孔径)为0.33。EXE:5000系列EUV光刻机主要面向3nm时代,目前台积电和三星的制程工艺路线图已经到了3nm,要想让技术尽快落地到实际,EXE:5000系列EUV光刻机的研发极为重要。不过最快可能也要于2023年或者2024年上市

总结下,EUV技术实质上是通过提升技术成本平衡工序成本和周期成本,EUV主要是从7nm开始,目前国内暂时没有这项技术的应用,国内集成电路某些特定领域还较为落后,尚未达到支撑研发EUV技术的先进水平。EUV产业化过程中最大的挑战主要来自于光源和持续生产率,除此之外,耗电量和曝光速度也还需要征服和挑战!

尽管EUV现在还存在各种障碍,但是从长远角度来看,中国持续发展EUV技术还是非常必要的!

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